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800G光模块制造工艺可以用到复坦希电子科技的哪些设备?

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800G光模块制造工艺可以用到复坦希电子科技的哪些设备?

发布日期:2025-05-27 作者:汪超 点击:26

光模块的制造工艺是一个高度精密的过程,主要包括以下核心环节:

  1. 芯片制造

  2. 光芯片(如DFB激光器、探测器)采用半导体工艺制造,常用InP、GaAs等材料,通过外延生长、光刻、蚀刻等步骤形成波导结构。

  3. 电芯片(如驱动IC)基于CMOS工艺制造,重点在于高频信号处理和低功耗设计。

  4. 封装与耦合

  5. 光器件封装:采用TO-CAN或COB封装技术,将芯片固定在基座上并完成金线键合。

  6. 光纤耦合:使用复坦希六轴精密调整台(FT2200B-L/FT2200B-R)实现光纤端面与芯片的亚微米级对准,耦合效率直接影响模块性能。

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  1. 电路集成

  2. PCB采用高频陶瓷基板,布局遵循阻抗匹配原则(通常50Ω),集成TIA、限幅放大器等元件。

  3. 驱动电路需通过仿真优化信号完整性,确保10Gbps以上速率下的低抖动特性。

  4. 密封与防护

  5. 气密封装:采用金属/陶瓷管壳充填惰性气体,防止水汽侵蚀(湿度<5%)。

  6. 光学接口:斜面8度APC抛光,回波损耗优于-50dB。

  7. 测试校准

  8. 参数测试:包含阈值电流(20-30mA)、斜率效率(0.1-0.3 W/A)、3dB带宽等指标。

  9. 系统测试:误码率需达10⁻¹²以下,工作温度范围-40℃~+85℃。

当前硅光子技术正在改变传统工艺,通过CMOS兼容工艺实现光电器件单片集成,耦合损耗可控制在1dB以内。制造过程中需保持千级洁净环境,关键工序精度达±0.1μm。不同速率模块(如100G/400G)在封装形式和材料选择上有显著差异,例如QSFP-DD采用更紧凑的散热结构设计。

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